噴霧熱分解制膜是以液體物質為制膜基料，霧化后噴射到高溫襯底上晶化成膜。對液體要求較低，摻雜準確容易，對成膜環(huán)境要求不高，裝置和成膜工藝簡單，成膜結晶溫度低，面積大，均勻。還可以制備超微顆粒粉體。同時分析了成膜機理。利用本方法已成功的制備出ＰＺＴ鐵電薄膜、ＭｇＯ薄膜、ＺｎＯ系壓薄膜、ＳｎＯ多晶膜等，并給出制膜條件和ＸＲＤ圖。